Uv Filtr Ultra Low Reflection K&f Concept Nano-x Mrc 62 mm 62 mm

Profesionální UV filtr K&F Concept Nano-X MRC 8K 62 mmUV filtr K&F Concept z řady Nano-X je pokročilé ochranné a optické zařízení navržené pro náročné fotografy a filmaře. Vyrobeno z nejkvalitnějších materiálů, kombinuje ochrannou funkci s vynikající propustností světla a zajišťuje perfektní kvalitu obrazu bez vlivu na barvy a kontrast. Díky extrémně nízkému koeficientu odrazivosti (≤ 0,1 %) a přenosu světla na úrovni ≥ 99,8 % se tento filtr osvědčí jak v každodenním použití, tak i v profesionálních aplikacích při práci v rozlišení 4K a 8K.Ultra nízké odrazy a nejvyšší průhlednostPokročilá povrchová úprava MRC (Multi Resistant Coating) snižuje světelné odrazy na pouhých 0,1 %, což zajišťuje vynikající průhlednost obrazu i v náročných světelných podmínkách. Díky vysokému přenosu světla (≥ 99,8 %) filtr nejen chrání objektiv, ale také zlepšuje kvalitu záběrů, zvyšuje kontrast a sytost barev a přitom nenarušuje přirozenost barev. Je to ideální řešení pro krajinářské fotografy, portréty a tvůrce videa, kterým záleží na maximální kvalitě materiálu.Sklo AGC s povrchovou úpravou Nano-XSrdcem filtru je japonské sklo AGC s mimořádně vysokou kvalitou, které zajišťuje ostrost a rozlišení vhodné i pro 8K snímače. Pokryto 28 vrstvami povlaků Nano-X, sklo účinně eliminuje světelné odlesky a zabraňuje ta
více informací