Uv Filtr Ultra Low Reflection K&f Concept Nano-x Mrc 55 mm 55 mm

UV ultrafialový filtr NANO-X MRCUltra-Low ReflectionVelikost filtru: 55 mmFILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKYVelmi nízký koeficient odrazivosti 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnostNová technologie povlakování titanem (titanová vrstva) účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazuFiltr zabraňuje odleskům a podsvícení a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazuUltra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla28 Nano antireflexních a ochranných vrstevSuper nízký profil typu SLIM (pouze 3,3 mm tloušťky)Prsten je vyroben z galvanicky černěného hliníkuSoučástí balení je pevné balení pro uložení filtruProdukt firmy: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrůMODEL: KF01.2462 / 55 mm NANO X UV Ultra Low ReflectionSpolečnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní a profesionální UV filtry. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.Filtr má až několik desítek nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.Ultrafialový filtr UV absorbuje ultrafialové záření a odděluje záření, kte
více informací