Uv filtr Nano-X Mrc K&f Concept pro FujiFilm X100 X100S X100V X100F X100VI - diskuze

Ultrafialový filtrUV NANO-X MRCUrčeno pro fotoaparáty FujiFilm:X100VIX100VX100FX100TX100SX100FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKYFiltr zabraňuje odleskům a podsvícení a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazuBarvy zůstávají přirozené a jasnéFiltr snižuje mlhu, která se může vyskytovat na moři nebo v horáchUltra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla28 Nano antireflexních a ochranných vrstevFiltr je voděodolný a odolný proti poškrábáníKroužek je vyroben z hliníku a je vybaven lichoběžníkovým vzorem, který usnadňuje montáž a demontáž filtruPřední rám filtru je magnetický a lze jej kombinovat s magnetickými filtry K&F CONCEPT o průměru 52 mmNa filtr lze připevnit také kryt od firmy K&F CONCEPT určený pro systém (dostupný také v naší nabídce)Součástí balení je pevné balení pro uložení filtruProdukt firmy: K&F CONCEPT – lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrůMODEL: KF01.2703 / UV MRCSpolečnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní a profesionální UV filtry. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyr
více informací