Polarizační filtr Cpl K&f Concept Nano-x Ultra-Low Reflection 77mm 77mm

Filtr CPL K&F Concept Nano-X 77 mmPolarizační filtr K&F Concept CPL Nano-X Ultra-Low Reflection je vysoce kvalitní optický filtr určený pro profesionály i pokročilé amatérské fotografy. Díky použití inovativních povlaků Nano-X filtr účinně eliminuje odrazy a odlesky světla, zvyšuje kontrast obrazu a zintenzivňuje barvy při zachování plné přirozenosti scény. Průměr filtru je 77 mm, což umožňuje montáž do široké škály objektivů.Sklo nejvyšší třídyPoužité japonské sklo AGC se vyznačuje výjimečnou průhledností a optickým rozlišením v souladu se standardy 4K a 8K. Čočka zajišťuje přenos světla na úrovni ≥99,8 % při koeficientu odrazivosti ≤0,1 %, což se což se promítá do jasného obrazu bez nežádoucího zkreslení, zabarvení nebo ztráty ostrosti.Pokročilá technologie povlaků Nano-XFiltr je vybaven 28 vrstvami nanopovlaků typu MRC (Multi-Resistant Coating). Tyto povlaky mají antireflexní, hydrofobní a oleofobní vlastnosti a účinně omezují tvorbu šmouh, skvrn a odlesků. Navíc chrání povrch skla před prachem, nárazem prachu a drobnými mechanickými poškozeními a výrazně usnadňují čištění.FunkčnostPolarizační filtr eliminuje polarizované světlo, což snižuje nežádoucí odrazy ze skla, vody a kovových povrchů. Výsledkem jeho působení je:posílení sytosti barev (např. zelená, modr?
více informací